中秋节的第一天，中国工信部发布了一则中国科技前沿的重磅消息：
工信部DUV光刻机官宣，套刻≤8nm，虽然与国外先进的光刻机存在比较大的代差。但是对于我国光刻机方面，这是一个不小的进展。
国家科技的进步，无疑困难重重，技术突破的背后是阴暗还是光明？
面对垄断，看中国如何攻破
这款光刻机虽然技术上还有点差距，分辨率只有193纳米，但已经够强了，在国际市场上能给美国和荷兰这些技术大佬一点颜色看看。
氟化氩193nm波长、8nm套刻精度的光刻机已经列入推广应用指导目录了。虽然和国外顶级光刻机相比还有些技术差距，但这款8nm级别的光刻机已经能满足大多数应用的需求了。
光刻机是芯片制造中的关键设备，全球市场基本上被荷兰的ASML公司所垄断。特别是在2018年，美国施加的一系列打压政策严重限制了中国的芯片行业。但是，随着国内科技实力的增强，这次国产DUV光刻机的推出，意味着中国在高端光刻技术领域已经迈出了重要的一步。
2023年8月29日，第二届半导体广州国际峰会在这样的背景下举行，不仅集中了众多高等院校、研究机构和企业的头脑风暴，还见证了国内半导体行业的蓬勃发展。此次大会的亮点之一是"全球芯片人才协作联盟"的成立，旨在进一步推动国内半导体行业的进步，抓住全球发展的机遇。
此外，德国柏林工业大学EE学院副院长Peter Eineke教授的关于光刻机新进展的报告，进一步强调了光刻机在半导体制造过程中的核心地位和最新技术进展，尤其是超分辨率成像技术的研发，这对提高光刻机精度至关重要。
曾经的面临的内忧外患
确实，过去的路走得不容易啊。但正是这些不易，塑造了我们今天的成就。从2018年起，美国就开始摇着各种规则的大棒，搞得我们步步为营。而跟着美国起哄的还有西方的一些国家。记得2018年9月7日，荷兰政府还出了个什么"特别批准"政策，明显就是专门来搞我们的！ASML的CEO温彼得（Peter Wennink）也曾经表示过，他认为中国独立制造顶尖光刻机的可能性不大。
还有咱们自己人，朱士尧教授，那会儿还说我们永远造不出高端光刻机呢。听着怎么那么心塞？不过，现在嘛，咱不仅造出来了，而且性能还那么牛，简直就是给教授的一记响亮的耳光啊！真是，翻盘了不是？
光刻机实现重大进展，压力给到荷兰
在美国的压力下，荷兰政府未曾允许ASML向中国出口其最先进的EUV光刻机，甚至最先进的浸润式DUV光刻机也遭到了限制。自9月7日起，向中国出口诸如TWINSCAN NXT:1970i、1980i等型号的DUV光刻机同样被禁止。
然而，在中秋节前夕传来的国产DUV光刻机的突破性进展，无疑对美国和荷兰的制裁政策形成了有力的回击。国产"氟化氩光刻机"的技术参数显示，其分辨率达到65nm以下，套刻精度为8nm以下，这标志着中国技术从90nm升级到65nm，而28nm技术则是半导体制造中低端与中高端的分界线。
目前，除最先进的CPU、GPU、AI芯片外，许多工业级芯片如军工、家电、及其他工业应用，均使用28nm以上技术。国产28nm光刻机的突破意味着中国在众多工业化领域已实现技术自主。虽然干式光刻机与ASML的DUV湿式多重曝光技术相比还有差距，但这一从无到有的突破为未来技术的进一步发展奠定了基础。
随着技术迭代的不断推进，国内实现7nm光刻技术似乎只是时间问题。7nm技术的实现将使得大部分电子产业，如手机芯片、电脑硬盘、内存、CPU和显示器等，都能摆脱对外国技术的依赖。这种技术自主不仅挑战了荷兰在中国市场的份额，还预示着未来国产光刻机将在全球市场中占据更重要的地位。怎能让荷兰不忧心？！
中国的荣耀：最后的难关，哈工大来突破
我们必须热烈地称赞哈尔滨工业大学的实验团队！他们在国产DUV光刻机的研发上做出了巨大的成就。早在去年二月，这支杰出的团队就已经攻克了最后一个技术难题，并成功实现了核心部件的国产化。现在，我们距离14纳米光刻机的量产仅仅一步之遥！这不仅是哈工大的骄傲，更是整个中国的荣光！这份成就令人无比激动和自豪！
